S'abonner : Articles Newsletter Facebook

Partager cet article sur Facebook Partager cet article sur Twitter

Concours de la meilleure photographie d’un lieu de mémoire

0 commentaire

Les Fondations « de la Résistance », « pour la mémoire de la Déportation » et « Charles de Gaulle » organisent chaque année un concours de la meilleure photographie d’un lieu de mémoire. Ce concours a pour but de permettre aux élèves d’exprimer, à partir d’un cliché accompagné d’un texte court, leur sensibilité aux aspects artistiques d’un lieu de mémoire. Tous les renseignements sur ce concours sont disponibles à cette adresse : http://www.fondationresistance.org/pages/action_pedag/concours_p.htm (date limite pour envoyer les travaux : 14 juillet 2012)

Vous pouvez notamment consulter sur cette page les anciens palmarès des photographies primées.

Voici quelques extraits du règlement de ce concours :

« Chaque candidat doit accompagner la photographie soumise au jury d’une présentation de sa réalisation (commentaires personnels, choix de la technique utilisée, conditions de réalisation…). La présentation écrite ne devra en aucun cas dépasser 2 000 signes espaces compris (environ 20 lignes en police Garamond corps 11). »

« Les critères d’appréciation du jury sont les suivants :

–         le choix du sujet de la photographie, son originalité et sa nouveauté

–         la qualité graphique et technique de la photographie

–         l’émotion se dégageant de la photographie et de son commentaire

–         la présentation de la réalisation (commentaires personnels, choix de la technique utilisée, conditions de réalisation…) »

Si vous êtes intéressés et que vous avez des questions, n’hésitez pas à laisser un commentaire à la suite de cet article.

Laisser une réponse